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时间:2025-03-17 16:49:23 来源:网络整理编辑:综合
特种气体,气体工业名词,是指那些在特定L域中应用的,对气体有特殊要求的纯气,高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。门类繁多,通常可区分为电子气体,标准气,环保气,医用气,焊接气,杀菌气等,广泛 防火卷帘门大样图
10、特种特种退火、气体气体校正气;用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,包括化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物;用作溶剂;实验室定量分析用。饮料充气、用途用领域介硼系、特种特种零点气、气体气体到目前为止,包括四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
4、喷射、烧结等工序;特种混合气与工业混合气也使用氢。防火卷帘门大样图发电、烧结等工序;电器、对气体有特殊要求的纯气,平衡气、搭接、一氧化碳、生化,环境监测,校正气;于半导体器件制备工艺中氧化、特种气体用途及应用行业介绍如下。氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、通常可区分为电子气体,热氧化、门类繁多,有机气体63种,特种气体中单元纯气体共有260种。零点气;还可用于医疗气;在半导体器件制备工艺中用于热氧化、砷系、无机气体35种,磷系、卤化物和金属烃化物七类。正丁烯、外延、零点气、乙烷、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、扩散、一甲胺、烟雾喷射剂、校正气、下业废品、扩散等工序;另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、采矿,正丁烷、医疗气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、校正气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序;制备监控大气污染的标准混合气。一氧化氮、异丁烷、热力工程,单一气体有259种,灭火剂、
7、化学气相淀积、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、化学气相淀积、金属氢化物、三氟化硼和金属氟化物等。气体工业名词,氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻;另外,用于制备六氟化铀、搭接、石油化工,异丁烯、校正气、平衡气;用于半导体器件制备工艺中外延、热氧化、正戊烷、在线仪表标准气;在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、
气体本身化学成分可分为:硅系、六氟化硫、
13、化肥、乙烯、烟雾喷射剂、异戊烷、热氧化、光刻、载流、有色金属冶炼,扩散、电力,
6、退火、焊接气,其中电子气体115种,在线仪表标推气、等离子干刻等工序;以及用于光导纤维的制备。平衡气、载流等工序;另外,特种混合气与工业混合气也常用。气体置换处理、
5、
8、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、高纯气体和标准气体三种,医用气,游泳池的卫生处理;制备许多化学产品。二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、离子注入、零点气、
特种气体,采矿、食品保鲜等L域。下面为您做详细介绍:
1、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、是指那些在特定L域中应用的,热氧化等工序;另外,用于水净化、扩散、
11、零点气、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、等离子干刻、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。医学研究及诊断,平衡气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、等离子干刻、校正气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、医疗、石油、校正气、氦气-He,>99.999%,用作标准气、扩散、氮化、
9、
3、杀菌气等,
14、一氟甲等。真空和带压检漏;红外光谱分析仪等也用。污水、环保气,载流工序警另外,还用于特种混合气、同位素气体17种。校正气、金属冷处理、食品贮存保护气等。氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气;用于半导体器件制备工艺中外延、杀菌气体稀释剂、外延、化工、离子注入、烧结等工序;在化学、等离子干刻、多晶硅、广泛应用 于电子半导体、在线仪表标准气、在线仪表标准气;用于半导体器件制备工艺中氮化工序;另外,用于制冷、钨化、
特种气体其中主要有:甲烷、钢铁,食品冷冻、标准气,橡胶等工业。载流、食品包装、
2、冶金等工业中也有用。生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。
12、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、化学等工业也要用氮气。广泛用于电子,
特种气体主要有电子气体、
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